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IPA 半導體、晶圓洗淨設備、apm半導體在PTT/mobile01評價與討論,在ptt社群跟網路上大家這樣說

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IPA 半導體在清洗製程的討論與評價

半導體 製程污染源. • 微粒. – 來源:機器、包圍的空氣、氣體、. 去離子水、化學品。 ... 半導體製程常見化學品. • 酸液: ... alcohol,IPA). – 乙醇(ethanol).

IPA 半導體在半導體& ETCH 知識,你能答對幾個? - 吳俊逸的數位歷程檔的討論與評價

答:利用IPA(異丙醇)和水共溶原理將晶圓表面的水份去除. 測Particle時,使用何種測量儀器? 答:TencorSurfscan. 測蝕刻速率時,使用何者量測儀器?

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